- 透過型電子顕微鏡：JEM-2100（日本電子）
- この装置は200kVで加速した電子線を試料に照射し、透過した電子を磁界型レンズで拡大させ、数100万倍ほど拡大した像を観察する装置である。0.1nm（=1Å）の分解能で格子像（原子が規則正しく並んでいる像）を観察することができる。
- 走査型電子顕微鏡：SU-8010（日立）
- この装置は試料の表面形状を、照射電圧1.0kVで1.3nmの高分解能(約30万倍)観察が可能。また、試料に電子線を照射することで元素に固有のエネルギーを持つX線が発生するので、付属のEDX(ホリバ製)によって特定の場所を1µmの分解能で短時間に多元素同時に定性定量分析ができる。
- X線回折装置：RINT-UltimaⅢ（リガク）
- この装置はX線の回折現象を利用して結晶構造の解析（物質の同定、格子定数の精密化等）を行う装置である。検出器にはシンチレーションカウンターと半導体検出器“D-TEX”を装備し、高いSN比をもつ回折パターンを短時間で得ることができる。
- XPS分析装置：JPM-9010MC（日本電子）
- この装置は試料にX線を照射し、表面（数nm）から発生する光電子を測定することにより、定性分析、化学結合状態等を分析できる。また、励起Arをぶつけ、試料表面を削りながら測定することにより、深さ方向の組成の変化を観察できる。
- 電子描画装置：ELS-3000（エリオニクス）
- この装置は電子線露光・描画・測画装置でPMMA等の電子線感光材料上に、ミクロンオーダの微細な回路パターンを作成することが可能である。おもに光波路等の作成に利用される。
- 単結晶X線構造解析装置：Saturn70（リガク）
- この装置は単結晶にあらゆる方向からX線を照射しその回折X線の強度と方向を測定することにより、分子そのものの立体構造、絶対配置を測定する装置である。従来型の装置に比べCCDを用いた二次元検出器により、短時間で測定することが可能である。
- ICP質量分析装置：7700x（アジレント）
- この装置は高マトリクスサンプルのルーチン分析向けに構成されており、高マトリクス導入機能 (HMI) や ORS3 セルを搭載している。高温プラズマ (低酸化物比)、耐マトリクスインタフェース、9 桁のダイナミックレンジを備えた 7700x は、使用頻度の高い機器に必要とされる理想的なロバスト性、感度、分析範囲を提供すると同時に、より高度な研究アプリケーションに対応できる柔軟性も備えている。
- 非接触表面形状測定機：NewView7300（Zygo）
- この装置は走査型白色干渉計をベースにした表面形状測定機である。独自の干渉縞解析手法によりAFMと同クラスの高垂直分解能を有しており、微細形状試料の表面を高精度、広範囲、短時間で測定することが可能である。
- 波長分散型蛍光Ｘ線装置：ZSX PrimusIV（リガク）
- この装置は試料の上面からX線を照射し、発生する蛍光X線から試料中の成分の特定と定量を行う走査型分析装置である。測定・解析をサポートするソフトウェア“ZSX Guidance”、デジタル計数システムや高速駆動のゴニオメータ、最適化された制御システムにより、高速・高精度で簡単に分析結果を得ることができる。軽元素の場合は含有量にもよるが、B～Uまでの多元素について、多試料のルーチン測定が可能である。
- エネルギー分散型蛍光X線装置：NEX CG（リガク）
- この装置はNa～Uまでの多元素を高精度・高感度で分析できる汎用エネルギー分散型蛍光X線分析装置である。大型試料室はA4サイズの大きな試料もそのままセットして分析できるだけでなく、サンプルチェンジャを取り付けることにより試料カップに入る程度の複数の小型試料（最大15個）を自動でルーチン分析することも可能である。
